Полезная модель относится к области плазменной техники и может быть применена при разработке устройств для пучково-плазменной обработки поверхностей большой площади. Такая обработка позволяет проводить в более щадящем режиме очистку поверхности от загрязнений и окислов, изменять химическую активность поверхности для создания определенных функциональных свойств, изменять электрические, оптические или механические свойства поверхности.

«Предлагаемая полезная модель плазменного источника ленточного пучка может быть полезна в исследованиях, связанных с формированием плазменных образований большой площади, инициирования пучково-плазменного разряда. Концентрация плазмы в таком разряде на порядок превышает концентрацию плазмы при обычных условиях распространения электронного пучка и может быть использована для  инициирования плазмохимических реакций. Широкий диапазон рабочих давлений разработанного источника позволяет получать пучковую плазму с контролируемым составом и параметрами, и это существенно расширяет области ее использования – от травления тонких моноатомных слоев, до  очистки и подготовки поверхностей перед нанесением покрытий», – рассказал ведущий научный сотрудник лаборатории пучково-плазменной модификации диэлектриков Александр Климов.

В целом, обработка поверхности плазменными источниками электронов представляет собой многообещающий метод для модификации свойств материалов и инициирования различных поверхностных процессов, которые могут быть применены в технологиях микро и наноэлектроники.

«Основными целями дальнейших исследований являются обеспечение стабильного функционирования разрабатываемого плазменного источника ленточного электронного пучка, а также отработка режимов пучково-плазменного воздействия на конкретные материалы с целью изменения их поверхностных свойств», – уточнил Александр Климов.